主题：集成电路再迎技术突破

据北京市政府新闻办9月9日消息，目前，北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机，已通过工艺验证。我国集成电路高端装备加快了追赶国际水平的脚步，技术水平已从2003年的“20年差距”缩到“3年”。

　　据了解，在北方微电子公司突破28纳米刻蚀技术前，国际上也仅美国和日本各有一家企业能够提供满足28纳米生产线的成熟设备。

　　长期以来，高端刻蚀设备一直是制约我国集成电路产业发展的瓶颈，因此，北方微电子将28纳米刻蚀设备推向市场，标志着我国在高端集成电路装备领域，第一次实现与主流生产线的需求同步。

　　此前，有分析人士预计，在未来相当长的一段时间内，资本对集成电路产业的关注度将持续高涨，行业并购重组有望快速扩大。

　　上市公司中，士兰微、长电科技、上海新阳、华天科技、振华科技等集成电路行业龙头，有望率先从相关技术的突破中获益。


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